操作機理 

覆蓋層單位 面積質(zhì)量(若密度已知，則為覆蓋層線性厚度)和二次輻射強度之間存在一定的關(guān)系。  對于任何實際的儀器系統(tǒng)，該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的攫蓋層校正標準塊校正確定。若筱蓋層  材料的密度已知，同時又給出實際的密度，則這樣的標準塊就能給出覆蓋層線性厚度。  （注:筱蓋層材料密度是攫蓋狀態(tài)的密度，不一定是側(cè)妞時的彼蓋層材料的理論密度。如果該密 度與校正標準的密  度不同，應(yīng)當采用、一個反映這種差別的系數(shù)并在測試報告中加以評注）. 

熒光強度是元素原子序數(shù)的函數(shù)，如果表面覆蓋層、中間覆蓋層( 如果存在)以及基體是由不同元素  組成或一個覆蓋層由不止一個元素組成，則這些元素會產(chǎn)生各自的輻射特征.可調(diào)節(jié)適當?shù)臋z測器系  統(tǒng)以選擇一個或多個能帶，使此設(shè)備既能測量表面覆蓋層又能同時測量表面覆蓋層和一些中間覆蓋層  的厚度 和組成 . 

激發(fā) 

x射線光譜方法測定覆蓋層厚度是基于一束強烈而狹窄的多色或單色 x射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長和能量的二次輻射.這些二次輻射具有構(gòu)成蓋層和基體的元素特征。 

高 壓 x射線管發(fā)生器或適當?shù)姆派湫酝凰乜僧a(chǎn)生這樣的輻射。

1.由高壓 x射線管產(chǎn)生 

穩(wěn)定條件下如果對 x射線 管外加足夠的電位，則能產(chǎn)生適當?shù)募ぐl(fā)輻射。大多數(shù)厚度測量要求的  外加電壓約為 25kV-50kV，但為了測量低原子序數(shù)覆蓋層材料，可能有必要將電壓降至 10kV。由于應(yīng)用了安裝在 x射線管和試樣之間的基色濾色器，降低了測量的不確定度。 

該激發(fā)方法的主要優(yōu)點為: 

一  通過準直，能在很小的 測量面上產(chǎn)生一束極強的輻射束; 

—  人身安全要求容易保證 ;

—  通過現(xiàn)代電子學方法可獲 得足夠穩(wěn)定的發(fā)射。 

2.由放射性同位素產(chǎn)生 

只有幾種放射性同位素發(fā) 射的 I射線在能量帶上適合覆蓋層厚度測量。理想的是，激發(fā)輻射的能  量比要求的特征 x射線能量稍高(波長稍短)，放射性同位素激發(fā)的優(yōu)點在于儀器結(jié)構(gòu)更緊湊，這主要 GB/T16921-2005ASO3497:2000  是因為無需冷卻。此外，與高壓 x射線管發(fā)生器不同，其輻射是單色的而且本底強度低。 

與 x射線管方法相比，其主要技術(shù)缺點是:

—    所得強度低得多，不能進行小面積測量 ;

—   一 些放射性同位素半衰期短;  高強度放射性同位素帶來人員 防護問題(高壓 x射線管可簡單關(guān)閉)。