膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片主要用于檢驗(yàn)電解測(cè)厚儀的準(zhǔn)確性，該標(biāo)準(zhǔn)片經(jīng)保護(hù)材料研究所檢驗(yàn)認(rèn)證，為電解測(cè)厚儀厚度標(biāo)準(zhǔn)檢驗(yàn)片，由于產(chǎn)品精度高，均勻性好，在電鍍行業(yè)中一直作為厚度的統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)而得到大量的使用。測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)片又名膜厚儀校準(zhǔn)片或者薄膜片，專業(yè)用于X射線測(cè)厚儀(膜厚儀)在測(cè)金屬鍍層厚度時(shí)進(jìn)行的儀器標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn)及建立測(cè)量分析檔案。

　　膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片一般分為單鍍層片，雙鍍層片、多鍍層片、合金鍍層片、化學(xué)鍍層片。例如：?jiǎn)五儗樱篈g/xx，雙鍍層：Au/Ni/xx，三鍍層：Au/Pd/Ni/xx，合金鍍層：Sn-Pb/xx，化學(xué)鍍層：Ni-P/xx。

　　膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)：

　　1.校準(zhǔn)箔

　　對(duì)于磁性方法，“箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對(duì)于渦流方法，通常采用塑料箔?！安庇欣谇嫔系男?zhǔn)，而且比用有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片更合適。

　　2.基體

　　(a)對(duì)于磁性方法，膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)與待測(cè)試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實(shí)標(biāo)準(zhǔn)片的適用性，可用標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬與待測(cè)試件基體金屬上所測(cè)得的讀數(shù)進(jìn)行比較。

　　(b)如果待測(cè)試件的金屬基體厚度沒有超過表一中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進(jìn)行校準(zhǔn)：

　　(1)在與待測(cè)試件的金屬基體厚度相同的金屬標(biāo)準(zhǔn)片上校準(zhǔn);

　　(2)用一足夠厚度的，電學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標(biāo)準(zhǔn)片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙。對(duì)兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。

　　(3)如果待測(cè)覆蓋層的曲率已達(dá)到不能在平面上校準(zhǔn)，則有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片的曲率或置于校準(zhǔn)箔下的基體金屬的曲率，應(yīng)與試樣的曲率相同。

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